用途特點：

高低溫循環裝置　　能夠提供冷源和熱源的循環裝置，工作范圍廣，適用于制藥、化工、生物、實驗室行業中連接反應釜進行制冷、加熱反應的設備，特別是是高低溫體機SUNDI系列主要功能應用于對玻璃反應釜進行升降溫、恒溫控制。

分為三個系統:制冷系統、加熱系統、預冷系統，三個系統可連續使用，也可分別單獨使用。

高低溫循環裝置適合在反應過程中有需熱、放熱過程控制，線性控制釜內物料溫度，可以選擇程序控制模式，導熱介質和物料的溫差也可設定，整個高低溫體機系統采用全密閉式循環，高溫時不會產生油霧，低溫時不會吸收水分，系統中有膨脹罐，在制冷加熱過程中導熱介質熱脹冷縮。

高低溫循環裝置主要用途：

用于雙層玻璃反應釜冷熱源動態恒溫控制、雙層反應釜冷熱源動態恒溫控制、微通道反應器冷熱源恒溫控制、小型恒溫控制系統、蒸飽系統控溫、材料低溫高溫老化測試、組合化學冷源熱源恒溫控制、半導體設備冷卻加熱、真空室制冷加熱恒溫控制等溫控控制中。

　　1、化工、制藥或生物領域雙層及三層反應釜的溫度控制。

　　2、攪拌罐的溫度控制。

　　3、材料測試中的應用。

　　4、蒸餾系統的溫度控制。

　　5、工藝過程中的溫度變化模擬控制。

　　6、恒溫控制系統。

　　7、半導體設備的溫度控制。

　　8、汽車工藝中熱測試平臺的溫度控制。

　　9、真空室的溫度控制。