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    高低溫循環(huán)裝置特點、主要用途與常用搭配
    點擊次數(shù):3381 更新時間:2019-12-27

    用途特點:

    高低溫循環(huán)裝置  能夠提供冷源和熱源的循環(huán)裝置,工作范圍廣,適用于制藥、化工、生物、實驗室行業(yè)中連接反應釜進行制冷、加熱反應的設備,特別是是高低溫體機SUNDI系列主要功能應用于對玻璃反應釜進行升降溫、恒溫控制。

    分為三個系統(tǒng):制冷系統(tǒng)、加熱系統(tǒng)、預冷系統(tǒng),三個系統(tǒng)可連續(xù)使用,也可分別單獨使用。

    高低溫循環(huán)裝置適合在反應過程中有需熱、放熱過程控制,線性控制釜內(nèi)物料溫度,可以選擇程序控制模式,導熱介質(zhì)和物料的溫差也可設定,整個高低溫體機系統(tǒng)采用全密閉式循環(huán),高溫時不會產(chǎn)生油霧,低溫時不會吸收水分,系統(tǒng)中有膨脹罐,在制冷加熱過程中導熱介質(zhì)熱脹冷縮。

    高低溫循環(huán)裝置主要用途:

    用于雙層玻璃反應釜冷熱源動態(tài)恒溫控制、雙層反應釜冷熱源動態(tài)恒溫控制、微通道反應器冷熱源恒溫控制、小型恒溫控制系統(tǒng)、蒸飽系統(tǒng)控溫、材料低溫高溫老化測試、組合化學冷源熱源恒溫控制、半導體設備冷卻加熱、真空室制冷加熱恒溫控制等溫控控制中。

      1、化工、制藥或生物領域雙層及三層反應釜的溫度控制。

      2、攪拌罐的溫度控制。

      3、材料測試中的應用。

      4、蒸餾系統(tǒng)的溫度控制。

      5、工藝過程中的溫度變化模擬控制。

      6、恒溫控制系統(tǒng)。

      7、半導體設備的溫度控制。

      8、汽車工藝中熱測試平臺的溫度控制。

      9、真空室的溫度控制。

     

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